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沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬

 小狐 • 2020-07-13 11:19  来源:互联网  E96

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图1)

文/Doris

这周五,沪指失守3400点,下跌了1.95%,这也是今年3月16日大跌以来的最大单日跌幅。

不过,也有板块延续前几日的势头,依旧实现强势上涨:

周四,光刻胶领涨各大版块;周五,光刻胶板块仍然实现了整体上涨。

不看不知道,年初至今,领涨光刻胶的蓝英装备、晶方科技、安集科技和容大感光的涨幅已经超过了200%,羡煞旁人。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图2)

逆市上扬 羡煞旁人!

在周四的文章《震惊A股 羡煞旁人!纷纷涨停背后 竟有暗雷丛生?》中,刀姐介绍了光刻胶板块的上涨逻辑,并指出了其中重要的一个关键点:要投就投中高端的光刻胶龙头!

为什么?

简单来说,我国光刻胶在低端应用领域已基本满足自给,但是在高端产品方面仍然需要突破。

光刻胶分三个细分领域:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶代表了最先进的光刻胶技术。

全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局,光刻胶公司领跑,JSR、东京应化、信越化学、富士电子材料四家企业市占率高达72%。大陆企业份额不足10%,且国内供应以PCB光刻胶为主,占到95%。

虽然国内光刻胶需求不断上涨,但是国内光刻胶仍十分依赖进口,半导体光刻胶和LCD光刻胶几乎全靠进口,顺便提一下,能自产的PCB光刻胶的生产原料也依赖进口。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图3)

在半导体制造中,光刻胶及其配套设备起到支撑产业链的关键作用,光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。

为了保证高精度光刻的质量,如7/5nmIC制程,好的光刻胶必须满足高分辨度、高敏感度、高对比度等技术指标。因此,光刻胶是支撑产业链的关键材料。

在国际博弈中,光刻胶是我国半导体产业最大软肋之一,无法自产会使本土产业受制于人,容易“卡脖子”

2019年断供韩国半导体原料的事件说明,只有关键材料国产化才能更好保证产业发展。供需矛盾加剧下,光刻胶国产化迫在眉睫。

总之,光刻胶的低端领域已经没有太大的发展空间,光刻胶的爆发力,肯定是在高端产品方面。

不管是公司,还是行业的上下游,都期待龙头公司能够突破高端光刻胶受制于人的局面,使光刻胶国产化由低端走向高端。

懂得了这个大方向,我们才能心有成竹,筛选真正的龙头企业。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图4)

龙头纵横 前景可期!

那么,就像许多檀香疑惑的一样,究竟什么才算龙头?

半导体光刻胶生产和研发企业目前主要有五家,分别为苏州瑞红(上市公司晶瑞股份子公司)北京科华、南大光电、容大感光、上海新阳。

以下从半导体的三代光刻技术对于上述五家公司进行对比。

首先是G/I线光刻胶(436/365nm)目前的国产化率是三代光刻技术中最高的,占比15%。

其中北京科华已经可以实现I线光刻胶产能500吨/年;苏州瑞红则实现120吨/年(02专项)容大感光则正在产能建设中。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图5)

其次是KrF/ArF光刻胶(248/193nm)目前除了北京科华的年产量(KrF)可以达到10吨,几乎全部都靠进口。

不过,苏州瑞红(KrF)已经进入产品中期阶段;上海新阳则预计6月份进入产品中期。

更为高端的ArF方面,北京科华已经实现了立项,处于研发阶段。

此外,今年5月22日,南大光电在互动平台表示,公司的ArF光刻胶正在按计划进行客户,这意味着国内的ArF光刻胶技术取得了重要突破,从研发开始走向生产。

根据南大光电公司之前的,公司于2017年开始研发“193nm光刻胶项目”已获得国家“02专项”的相关项目立项,计划通过3年的建设、投产及实现,达到年产25吨193nm(ArF干式和浸没式)光刻胶产品的生产规模。

最后,就是最“高级”的极紫外(EUV光刻胶)

目前,国内只有北京科华参与的国家科技重大专项极紫外(EUV)光刻胶项目已通过验收。

不过,EUV光刻胶也不是目前急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要。

可以看出,北京科华是当之无愧的龙头之一。虽然北京科华不属于未上市公司,但有两家上市公司是北京科华的持股股东。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图6)

最“疯狂”的当属近五个交易日便收获5个涨停板的彤程新材,据其7月9日发布的股价异动公告显示,公司全资子公司彤程电子受让北京科华33.70%的股权并完成工商变更登记。

此外,上市公司高盟新材也在去年从南大光电的手里买下了3.67%的股权。

北京科华成立于2004年8月,是中国第一家生产光刻胶的公司,创始人陈昕是一个典型的工科女生,1990年美国马萨诸赛州立大学高分子专业研究生毕业,毕业后先在一家美国光刻胶公司工作,后作为创始人之一在美国创建了MCC光刻胶公司,2004年回国创业。

值得一提的是,科华微电子是目前国内唯一拥有荷兰ASML曝光机的光刻胶公司,其最小分辨率可达0.11um。通过与客户晶圆厂同样的检测设备配置,实现了上下游产品检测的无缝对接。

除了通过投资北京科华进军光刻胶行业的彤程新材和高盟新材,曾经主营业务为汽车用改性塑料产品的普特利,也在去年通过投资了王晓伟博士的光刻胶公司—苏州理硕科技有限公司,成功进军光刻胶行业。

该公司目前正处于产品研发阶段,主要方向是KrF和ArF、TFT、PSPI等光刻胶产品的企业。

关于王晓伟博士,业内评价很高,有谓之“光刻胶第一人”是和美国光工程学会会员,多年在从事EUV光刻胶的量产化工作,长期与JSR、信越公司竞争。

如此来看,光刻胶行业可谓是朝气蓬勃,欣欣向荣。

沪指失守,一片哀嚎,制裁之下,它却逆势上扬(图7)

但是,尤其需要注意的是,光刻胶质量依赖于上游原材料,但高端光刻胶原材料被高度垄断,我国只能进口。

所以,国内光刻胶龙头企业在启动ArF光刻胶项目时,仍需要承受原材料被封锁的风险。

对这种情况,国际巨头的操作是:向产业上游伸出手,达到生产自给自足的目的。当然,国内也有厂商借鉴了这种模式来降低风险。

比如说上海新阳,就选择了与合作伙伴同时关键原材料,来确保ArF项目的原材料供应不至于某一天突然被“短缺”

综上所述,光刻是芯片制造中的关键一环,光刻胶也是光刻过程中不可忽视的重要板块,集中力量突破技术天擎,仍是未来长时间内的主题。

本文相关词条概念解析:

光刻胶

又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像(见图光致抗蚀剂成像制版过程)。

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